기술 적용
ALD (Atomic Layer Deposition) 코팅은 원자층 단위로 박막을 증착하는 공정으로 복잡한 3D 구조나 High aspect ratio 구조에서도 균일하고 치밀한 보호막 형성이 가능합니다. TEM 시편 제작 전 ALD 코팅을 적용함으로써, FIB 가공 및 thinning 과정 중 발생할 수 있는 물리적 손상, 계면 변형을 효과적으로 억제하고 보다 신뢰도 높은 TEM 분석 결과 확보가 가능합니다.
기술 소개
FIB 가공 전 보호 코팅
High aspect ratio 구조 내부의 균일한 박막 코팅
장비
-
Items
Specification
Model
Savannah S200/Veeco
증착균일성
Uniformity <2%
온도범위
RT~300℃
증착속도
0.1nm/cycle (Al2O3)
0.075nm/cycle (HfO2)증착막
Al2O3, HfO2
Substract size
up to 200mm
기술적용사례
